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動(dòng)態(tài)光散射原理-納米粒度設(shè)備的理論基礎(chǔ)

更新時(shí)間:2018-11-26 點(diǎn)擊數(shù):2836

動(dòng)態(tài)光散射原理-納米粒度設(shè)備的理論基礎(chǔ)

基于動(dòng)態(tài)光散射原理的納米粒度儀的理論基礎(chǔ)是基于動(dòng)態(tài)光散射原理。納米粒度分析儀的基本測(cè)試原理:激光光電倍增管(PMT)放大器/鑒別器數(shù)字相關(guān)器計(jì)算機(jī)入射透鏡樣品池基于動(dòng)態(tài)光散射納米粒度分析儀原理基本測(cè)試原理圖激光器發(fā)射的激光器激光通過入射光路照射到樣品池中的顆粒上。散射光通過接收光路進(jìn)入光電探測(cè)器,然后由數(shù)字相關(guān)器獲得其光強(qiáng)度的自相關(guān)函數(shù)G時(shí)的散射光強(qiáng)度。對(duì)于靜止過程,t = 0。根據(jù)高斯光場(chǎng)的Siegert關(guān)系,可以獲得光強(qiáng)度自相關(guān)函數(shù)G的光強(qiáng)度自相關(guān)函數(shù)的值,其通常被稱為基線。它可以在測(cè)試中直接測(cè)量,該測(cè)試是反映整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)的空間相干性的參數(shù)。空間相干因子主要由系統(tǒng)的光學(xué)性質(zhì)決定。對(duì)于單分散粒子系統(tǒng),存在延遲時(shí)間; Γ是線寬(或衰減率),其表達(dá)式為:粒子的平移擴(kuò)散系數(shù),q為散射矢量,n為溶劑的折射率,θ為散射角。

對(duì)于真空中的光波長(zhǎng)。對(duì)于納米粒度儀的球形顆粒,根據(jù)Stokes-Einstein公式,D與顆粒直徑d具有以下關(guān)系:= 1.3810-23是絕對(duì)溫度,η是溶劑粘度,d是顆粒直徑。可以看出自相關(guān)操作的表征和動(dòng)態(tài)光散射原理的物理意義來測(cè)試納米粒子尺寸的理論基礎(chǔ),在外部條件的條件下,粒徑只是光強(qiáng)度自相關(guān)函數(shù)的線寬。 (衰減率)納米粒度分析器中動(dòng)態(tài)光散射原理中最關(guān)鍵和最主要的任務(wù)是獲得散射光的自相關(guān)函數(shù)。因此,粒度測(cè)試方法中的動(dòng)態(tài)光散射法(DLS)也變?yōu)楣庾酉嚓P(guān)光譜法(PCS)。相關(guān)的動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)是一種常用于處理隨機(jī)過程和噪聲理論的方法。

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